IV族混晶半導体のみで高品質の二重障壁構造を形成する技術 [2aolHP★] (1)

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1 枯れ果てた名無し@転載禁止 (03b0fbe1) 2025/08/27 (水) 23:55:03.472 ID:jp5Q12q9O

名古屋大学大学院工学研究科の柴山茂久助教、鳥本昇汰博士前期課程学生、石本修斗博士前期課程学生(当時)、中塚理教授らによる研究グループは2025年8月、IV族混晶半導体のみで高品質の二重障壁構造(DBS)を形成する技術を開発したと発表した。この技術を用い、テラヘルツ(THz)発振に必要な共鳴トンネルダイオード(RTD)を試作し、室温(300K)での動作実証に成功した。

https://eetimes.itmedia.co.jp/ee/spv/2508/22/news052.html